陶瓷材料加工的基本方法:陶瓷材料通常需經(jīng)過(guò)坯料切割、磨削、研磨和拋光等工序制成所需的零件形狀,研磨、拋光加工是采用游離磨料對(duì)被加工材料表面產(chǎn)生微細(xì)去除作用,以達(dá)到加工效果的一種超精加工方法。在陶瓷材料的超精加工與光整加工中,特別是在用于陶瓷軸承的陶瓷球的精密加工中,研磨、拋光加工有著不可替代的位置。
從材料的去除機(jī)理上看,研磨加工是介于氧化鋯陶瓷脆性破壞與彈性去除之間的一種加工方法,而拋光加工基本上是在材料的彈性去除范圍內(nèi)進(jìn)行。
研磨、拋光加工由于氧化鋯陶瓷材料去除量小,加工效率低,一般只用于氧化鋯陶瓷超精加工的最終工序。
研磨、拋光加工的氧化鋯陶瓷材料去除率與被加工氧化鋯陶瓷材料的韌性有較大關(guān)系,氧化鋯陶瓷韌性越高,氧化鋯陶瓷加工效率越低。
一般來(lái)說(shuō)使用平面拋光機(jī)在進(jìn)行拋光氧化鋁陶瓷都是采用鐵盤開粗,然后用白布進(jìn)行拋光,但是這種效率非常慢,往往白布拋光要經(jīng)過(guò)30-40分鐘后才能達(dá)到應(yīng)有的鏡面。光學(xué)玻璃、藍(lán)寶石等光學(xué)材料,硅片、GaAs基片等半導(dǎo)體材料,氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷等陶瓷材料的鏡面加工大多采用研磨、拋光加工方法。